Manual de prácticas de laboratorio: Análisis morfológico por AFM de fotoresist tras exposición y revelado

Abstract

Este manual presenta una práctica de laboratorio orientada a la caracterización topográfica de fotorresists expuestos a radiación ultravioleta (UV) mediante Microscopía de Fuerza Atómica (AFM). El objetivo principal es que el estudiantado comprenda la relación entre la dosis de exposición, el enfoque y la morfología final del fotorresist, así como el manejo adecuado del microscopio AFM en modo resonante. Se propone un enfoque didáctico que integra conceptos de litografía óptica, análisis de rugosidad y procesamiento de datos con software libre. Este material está diseñado para ser reutilizable en el Grado en Nanociencia y Nanotecnología, dentro de la asignatura Nanofabricación, fomentando la formación experimental y el aprendizaje autónomo.