Manual de prácticas de laboratorio: Análisis morfológico por AFM de fotoresist tras exposición y revelado

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dc.contributor.authorBakkali Azlou, Hicham
dc.date.accessioned2025-10-24T06:28:35Z
dc.date.available2025-10-24T06:28:35Z
dc.date.issued2025
dc.description.abstractEste manual presenta una práctica de laboratorio orientada a la caracterización topográfica de fotorresists expuestos a radiación ultravioleta (UV) mediante Microscopía de Fuerza Atómica (AFM). El objetivo principal es que el estudiantado comprenda la relación entre la dosis de exposición, el enfoque y la morfología final del fotorresist, así como el manejo adecuado del microscopio AFM en modo resonante. Se propone un enfoque didáctico que integra conceptos de litografía óptica, análisis de rugosidad y procesamiento de datos con software libre. Este material está diseñado para ser reutilizable en el Grado en Nanociencia y Nanotecnología, dentro de la asignatura Nanofabricación, fomentando la formación experimental y el aprendizaje autónomo.
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10115/109077
dc.language.isoes
dc.rightsAttribution-ShareAlike 4.0 Internationalen
dc.rights.accessRightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-sa/4.0/
dc.subjectAFM
dc.subjectfotorresist
dc.subjectlitografía óptica
dc.subjectnanofabricación
dc.subjectdocencia experimental
dc.subjectanálisis de rugosidad
dc.titleManual de prácticas de laboratorio: Análisis morfológico por AFM de fotoresist tras exposición y revelado
dc.titulacionGRADO EN NANOCIENCIA Y NANOTECNOLOGIA / NANOFABRICACIÓN
dc.typeLearning Object

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